談談光學玻璃的拋光工藝如何
光學玻璃是光電技術產業的基礎和重要組成部分。特別是在20世紀90年代以后，隨著光學與電子信息科學、新材料科學的不斷融合，作為光電子基礎材料的光學玻璃在光傳輸、光儲存和光電顯示三大領域的應用更是突飛猛進，成為社會信息化尤其是光電信息技術發展的基礎條件之一。
今天我們談談光學玻璃的拋光工藝：
1.拋光粉的材料 ： 拋光粉通常由氧化鈰、氧化鋁、氧化硅、氧化鐵、氧化鋯、氧化鉻等組份組成，不同的材料的硬度不同，在水中的化學性質也不同，因此使用場合各不相同。氧化鋁和氧化鉻的莫氏硬度為9，氧化鈰和氧化鋯為7，氧化鐵更低。氧化鈰與硅酸鹽玻璃的化學活性較高，硬度也相當，因此廣泛用于光學玻璃的拋光。 為了增加氧化鈰的拋光速度，通常在氧化鈰拋光粉加入氟以增加磨削率。鈰含量較低的混合稀土拋光粉通常摻有3-8的氟;純氧化鈰拋光粉通常不摻氟。 對ZF或F系列的玻璃來說，因為本身硬度較小，而且材料本身的氟含量較高，因此因選用不含氟的拋光粉為好。
2.氧化鈰的顆粒度 ： 粒度越大的氧化鈰，磨削力越大，越適合于較硬的材料，ZF玻璃應該用偏細的拋光粉。要注意的是，所有的氧化鈰的顆粒度都有一個分布問題，平均粒徑或中位徑D50的大小只決定了拋光速度的快慢，而粒徑Dmax決定了拋光精度光學冷加工生產操作的高低。因此，要得到高精度要求，必須控制拋光粉的顆粒。
3. 拋光粉的硬度 ： 拋光粉的真實硬度與材料有關，如氧化鈰的硬度就是莫氏硬度7左右，各種氧化鈰都差不多。但不同的氧化鈰體給人感覺硬度不同，是因為氧化鈰拋光粉通常為團聚體。當然，有的拋光粉中加入氧化鋁等較硬的材料，表現出來的磨削率和耐磨性都會提高。
4. 拋光漿料的濃度 ： 拋光過程中漿料的濃度決定了拋光速度,濃度越大拋光速度越高。使用小顆粒拋光粉時，漿料濃度因適當調低。